活动介绍
在手机相机、天文望远镜、车载激光雷达、HUD、AR/VR 等光学系统开发中，视场外强光源经机械结构件散射、镜片间二次反射形成的鬼像、探测器反射及漏光等杂散光，会在像面产生伪影、眩光与对比度下降，直接劣化成像质量，高功率激光系统中甚至可能损伤光学元件。杂散光根因隐蔽、路径复杂，在设计早期定位并抑制根因，是压缩研发迭代的关键。Ansys Zemax OpticStudio 提供从序列模式鬼像分析到非序列模式全路径追迹的完整工具链，打通 “光学设计→鬼像抑制优化→整机杂散光评估” 完整工作流，在样机加工前锁定并消除杂散光风险。
本次线上研讨会覆盖序列模式鬼像生成与优化、非序列模式转换与追迹配置、过滤字符串与路径分析根因溯源、镀膜与机械结构抑制验证的全套工程流程，通过双高斯镜头与手机镜头实操案例演示，搭建标准化杂散光分析工程，为光学设计与仿真工程师提供可直接复用的分析流程与优化策略，高效完成杂散光定位、抑制与性能验证。
活动时间
2026年11月10日（星期二）
14:30-15:15
活动费用
活动费用：免费
参与方式
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深圳市摩尔芯创科技有限公司，ANSYS 中国区授权代理商，可提供 Ansys Lumerical 光子学仿真、Ansys Zemax 光学设计、Ansys Speos 光学成像仿真、Ansys HFSS 电磁仿真、SIwave、Q3D、Maxwell、Icepak 热仿真、Mechanical 结构仿真、LS-DYNA、Sherlock 可靠性仿真、Fluent/CFX 流体仿真等全套 EDA 与 CAE 工业软件，配套工程仿真、项目 Debug、技术培训、定制开发服务，广泛服务半导体、硅基光电子、汽车电子、新能源、智能穿戴、医疗电子等行业以及国内各大高校科研单位。