简要说明
‐ Fluent化学反应模型进行ALD原子层气相沉积计算可调用Chemkin机理文件,相比于手工输入的简单反应机理,精度更高
‐ 本案例以三甲基铝ALD沉积为例,演示了如何使用Fluent调用Chemkin的化学反应机理文件进行耦合仿真的设置、计算及后处理过程
- 案例采用profile文件定义组分和进口流速随时间的变化,采用UDF函数统计沉积厚度随时间的累计变化
‐ 注意事项:文档基于2026R1版本编写,如需获取案例及反应机理文件,欢迎与摩尔芯创进一步沟通。
内容详情
























深圳市摩尔芯创科技有限公司,ANSYS中国区授权代理商,可提供Ansys Lumerical光子学仿真、Ansys Zemax光学设计、Ansys Speos光学成像仿真、Ansys HFSS电磁仿真、SIwave、Q3D、Maxwell、Icepak热仿真、Mechanical 结构仿真、LS-DYNA、Sherlock可靠性仿真、Fluent/CFX流体仿真等全套EDA与CAE工业软件,配套工程仿真、项目Debug、技术培训、定制开发服务,广泛服务半导体、硅基光电子、汽车电子、新能源、智能穿戴、医疗电子等行业以及国内各大高校科研单位。